基本信息
| 标准名称： | 硬面光掩模基板 |
| 英文名称： | Hard surface photomask substrates |
| 中标分类： | 电子元器件与信息技术 >> 电子工业生产设备 >> 加工专用设备 |
| ICS分类： | |
| 发布部门： | 国家技术监督局 |
| 发布日期： | 1995-01-02 |
| 实施日期： | 1996-08-01 |
| 首发日期： | 1995-12-22 |
| 作废日期： | 1900-01-01 |
| 主管部门： | 国家标准化管理委员会 |
| 归口单位： | 全国半导体材料和设备标准化技术委员会 |
| 起草单位： | 长沙韶光微电子总公司 |
| 出版社： | 中国标准出版社 |
| 出版日期： | 1996-08-01 |
| 页数： | 平装16开， 页数：13， 字数：19千字 |
适用范围
本标准规定了硬面光掩模用玻璃基板的要求、试验方法、检验规则等内容。本标准适用于硬面光掩模用玻璃基板。
前言
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目录
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引用标准
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所属分类： 电子元器件与信息技术 电子工业生产设备 加工专用设备